舰船防化 2015年第2期,43,47 CHEMICAL DEFENCE oN SHIPS 弛2.43--47 磁控溅射制备p-Cu2O/n.ZnO异质结光电 性能的研究 孟庆刚 (中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北邯郸056027) 摘要:太阳能光伏发电是利用半导体材料光伏效应直接将太阳能转换为电能的一种发电形式,而 p-n结是半导体材料迈向器件化必不可少的一步。cu2O由于制备成本低、来源广泛而成为P型材料 的研究热点。本文采用磁控溅射法制备P型Cu20,并将其与n型ZnO复合制备p-n结研究其光电性 能。实验结果表明,p-Cu2O/n—ZnO异质结制备良好,光源照射下产生光电压40 mV,放电电流约为 1l nA。 关键词:p-n结;Cu2O;光电性能 中图分类号:0469.4 文献标识码:A Research on Photo--electric Properties of P--Cu20/n--ZnO Junction Prepared by Magnetron Sputtering Meng Qing—gang (The 7 1 8th Research Institute of CSIC,Handan 056027,China) Abstract:Photovoltaic power generation by solar energy is a new generating—electricity type which changes solar energy to electriciy by tphotovoltaic effect of semiconductor material and P—n junction is essential for its practical use.Cu20 has been a hot research focus for its low cost and wide origin.In the work p-tpe Cu20 was yprepared by magnetron sputtering and compounded with n—type ZnO,which could orm fP—n junction.It denoted that P-Cu20/n—ZnO was well prepared.It generated photovoltage of about 40 mV irradiated in tungsten lamp and discharge current ofnearly 1 1 nA. Keywords:P—n junction,Cu20,Photo—electric property 0引言 太阳能光伏发电是利用半导体材料光伏效应直 备成本低,材料广泛易得等优点,而成为众多研究者 的研究热点。Cu2O是立方晶系结构,禁带宽度约为 2.17 eV,稳定性好,因此被广泛应用于太阳能电池…、 湿度传感器【2J和光催化【3J等。而在太阳能电池上,其 理论转化效率可达18%【4],因此具有很大的研究应用 接将太阳能转换为电能的一种发电形式,而p-n结是 半导体材料迈向器件化必不可少的一步。n型透明导 电材料目前研究比较成熟,且性能良好。而Cu20是 最早被发现的P型半导体材料之~,它具有无毒,制 前景。目前已经开始有与p.Cu2O/n—ZnO有关的P—n 结制备和性能的研究。日本立命馆大学J.Katayama 2015年第2期 磁控溅射制备p-Cu2O/n—ZnO异质结光电性能的研究 ・45・ rrB, 口圣 站三电极方法检测p-n异质结光伏性能,其中钨灯光 源强度为1.05 W/cm 。 2结果及讨论 2.1 P型Cu20薄膜的表征 2.1.1 Cu2O薄膜XRD分析 柑~毒∞c里c— 图2制备Cu2O薄膜XRD分析 Fig.2 XRD analysis of Cu20 film 图2是制备Cu2O薄膜的XRD分析图谱。由图 可知,薄膜退火后XRD谱图中除了有SiO2的衍射峰 (在22。左右,来源于石英衬底),还主要出现了由 Cu20产生的(111)、(200)晶面衍射峰及Al2O3衍射 峰。 2.1.2电学性能分析 表3 Cu2O薄膜电学性能参数 Tab.3 Electricity properties of Cu20 film 性能参数 薄膜厚度 1.03 um 迁移率 l2.12 cm2/Vs 载流子浓度 4.9×10 cm- 霍尔系数 125.80 cm。 /C 电导率 8.80x10‘ S/cm 制备薄膜的电学性能参数采用霍尔效应测试仪 在常温下进行测试,如表3所示。由测试结果知,测 得的正霍尔系数表明其为良好的P型半导体。根据测 得的电阻及薄膜厚度,计算得薄膜的电导率为 8.80 ̄10~S/cm。因此本实验采用磁控共溅射法成功制 备具有良好电学性能的P型Cu20薄膜。 2.2 n型ZnO薄膜的表征 2.2.1沉积ZnO薄膜的结构、形貌表征 A ZnO・ )● 10 20 30 40 5O 60 70 80 2e,。 图3ZnO溥膜XRD Fig.3 XRD analysis and SEM picture of ZnO film 图3是沉积温度350℃时薄膜的XRD图。由图 知,沉积薄膜具有明显的单一C轴(002),(004)晶 面取向,晶体沿(001)晶面择优生长,制各薄膜质 量高。高度择优的薄膜对其优异性能的表现有着至关 重要的作用。 2.2.2沉积ZnO薄膜的光学性能表征 图4为沉积ZnO薄膜紫外可见透过性光谱图。 由图知,沉积制备ZnO薄膜可见光透过率在60%~ 90%,具有很高的可见光透过特性,同时在紫外区具 有很强的吸收。这与ZnO薄膜良好的结晶特性有密 切关系。 Wavelength/nm 图4 ZnO薄膜紫外可见透过性光谱图 Fig.4 Transmittance spectrum of ZnO film 2.2.3 ZnO电学性能分析 ∞。u I・46・ 舰船防化 2015年第2期 穹m~誊∞c9lu— 表4为直流磁控溅射制备ZnO薄膜的电学性能 参数。制备的ZnO薄膜采用霍尔效应测试仪在常温 下进行测试。由测试结果可知,负霍尔系数表明制备 的ZnO薄膜材料是n型半导体。采用台阶测试仪知 在可见光区透过率最高可达50%,可见光透过性良好。 制备薄膜厚度为1.01 ̄tm,根据测试电阻得薄膜电导 率为82.0 S/cm。因此,实验成功制备具有良好光学 及电学性能的n型半导体。 表4ZnO薄膜电学性能参数 Tab.4 Electricity properties of ZnO mm 性能参数 薄膜厚度 1.01 lam 迁移率 4.99 cm /Vs 载流子浓度 1.03x1020 cm一3 霍尔系数 .6.06 ̄1 0‘ cm-0/C 电导率 82.0 S/cm 2.3 P.Cu2O/n.ZnO异质结薄膜制备 2.3.1 P Cu20/n-ZnO异质结XRD结构表征 图5为p-n异质结XRD谱图,由图可知,P.n结 薄膜含有石英衬底SiO2产生的衍射峰(约为22。), ZnO产生的(002)晶面(约34.38。)和(103)晶面 (约62.78。)衍射峰,Cu2O主要产生的(1l1)晶面 (36.42。)衍射峰。 Z丑, 图5 p-n异质结XRD谱图 Fig.5 XRD analysis ofp—n juction 2_3.2 p-Cu20/n.ZnO异质结光学性能测试 图6为P.n异质结的紫外可见透过性光谱图。由 图6知,制备P—n异质结在紫外区具有良好的吸收, 图6 p-n异质结的紫外可见透过性光谱图 Fig.6 Transmittance spectrum ofp—n junction 2.3_3 P.Cu2O/n.ZnO薄膜的光电性能测试 制备的p-n结薄膜在钨灯光源下照射,采用三电 极电池系统测试其电学性能。P—Cu2O/n—ZnO薄膜在 镀制ZnO沉积温度350℃时的光电压图如7所示。 > E = .歪 芒 ∞ 芑 图7 Cu20/ZnO薄膜在钨灯光开及光关时光电压变化图 Fig.7 Photovoltage changes of Cu20/ZnO iflm with and without irraditing in lamp 由图7可知,随着光源灯开及灯关测得的光电压 均有明显的上升及下降趋势。光开稳定时电压在 40mV左右,而单层的P型Cu20和n型的ZnO薄膜 在光照下均没有明显的光电压产生。 Cu2O/ZnO薄膜的放电曲线如8所示,由图知制 备P—n结放电电流约为11 nA。放电电流数值偏小, 可能的原因是P型Cu2O薄膜与n型ZnO薄膜在晶粒 边界及晶面之间结构上的不匹配及测试时探针与薄 2015年第2期 磁控溅射制备p-Cu20/n—ZnO异质结光电性能的研究 Vu、芒 Jn0 ・47・ 膜之间导致的接触电阻过大有关。 图8 Cu2O/ZnO薄膜的放电图 Fig.8 Discharge shape of Cu20/ZnO film 3结论 本文通过研究磁控溅射法制备P型Cu2O薄膜, 将其与ZnO薄膜复合制备p-n异质结,通过结构及光 电性能表征确定p-n结的特性。由结构及光电性能表 征表明:p-n结主要成分为Cu20及ZnO;紫外光基 本吸收,可见光最高透过性可达50%;光开稳定光 电压约为40mV,产生放电电流11 nA左右。本论文 的结果为P—n异质结的深入研究奠定基础。 参考文献 [1]Ozer N,Tepehan E Stmcmre and optical properties of electrochromic copper oxide films prepared by reactive and conventional evaporation techniques[J].Sol Energy Mater Sol Cells,1993,30(1):13 ̄26 [2]Parreta A,Jayaraj M.K.,Nocera A.D.,et a1.Electrical and optical properties of copper oxide films prepared by reactive RF magnetron sputtering[J].Phys.Stat.So1.(a),1 996,1 55(2): 399 ̄404 [3]Kumar R.V,Elgamiel R,Diamant Gedanken A,Norwig J. 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